氨逃逸解決抑制監測設備

氨逃逸解決抑制監測設備

一、產品介紹
NH3激光氣體分析系統（包括測量池）采用全程加熱，保證樣品氣體溫度，防止有水析出而對NH3的大量溶解影響分析結果。探頭采用電加熱過濾探頭，在取樣出就完成樣品的凈化，減小了后級預處理的負荷，大大降低了器件的故障率。系統設計有探頭自動反吹程序及儀表自動標零程序，正常運行后僅需要正常的巡檢即可。傳輸管線采用復合電伴熱管纜，并控制在2m以內，整個預處理全部集成在高溫加熱盒內，系統緊湊以避免長距離傳輸管路對NH3的吸附。

氨逃逸檢測系統具有多年在國內外從事可調諧半導體激光光譜分析技術研發、掌握TDLAS核心技術并積累豐富經驗的技術專家、研發團隊精心打造而成的氣體監測設備。測量快速、準確、穩定、不受背景氣體干擾。

二、系統優勢

NH3分析儀是采用可調諧半導體激光光譜技術研制而成。以高穩定性、低噪聲的可調諧激光器為光源，可有效克服背景氣體、粉塵等因素干擾，實現準確、快速測量。

• 適應高溫、強腐蝕性氣體的在線檢測,采用非接觸光學檢測技術，對各類高溫氣體進行直接分析，針對各類腐蝕性氣體的檢測應用，選用特制的測量氣體室以及高溫伴熱等方式，有效防止氣體對儀器的腐蝕，滿足各類應用要求。

•系統無漂移，避免了定期校正需要，NH3分析儀采用波長調制光譜技術，并且進行動態的補償，實時鎖住氣體吸收譜線，不受溫度、壓力以及環境變化的影響，不存在漂移現象。

    NH3氣體分析系統現場安裝靈活，光學非接觸測量不易被腐蝕，光強不受煙氣粉塵影響，抗機械振動能力強，測量不受溫度和壓力等過程參數影響。具有測量精度高（達0.1ppm),抗干擾能力強、維護簡單,運行成本低等諸多優勢，可滿足脫硝工藝中氨逃逸檢測需求。

三、技術參數

四、產品特點

1、該裝置與樣品接觸的部分全部采用316L不銹鋼材料加工制成，高溫條件下抗腐能力很強。配制防雨罩*可以勝任室外工作環境。
2、在設計上采用等溫加熱體，結構緊湊，加熱溫度穩定。
3、過濾器濾芯采用SiC陶瓷過濾器，具有過濾面積大，過濾精度高等特點，更換時可將其從裝置中整體拉出，操作簡單，無需工具，大大地縮短維護更換的時間，并降低了勞動強度。
4、該裝置除設有一樣氣輸出口外，還設置有一個可復用的反吹／校準口，在配置時可靈活安排氣路。
5、操作簡單,帶有低溫報警.
6、濾芯更換無需工具 。
7、開關方便，帶扣鎖保護罩
8、高效過濾清潔系統

五、系統主要技術指標
●檢測工藝點：脫銷氨逃逸檢測     ●分析組分：NH₃

●系統響應時間：1秒        ●測量范圍：0-50ppm（可定制）
●測量精度:±1%F.S         ●穩定性：無漂移
●氣體壓力:25—2000mbar   　●校正:出廠設定
●系統維護周期：1年       　●系統可靠性： MTBF≥1年●信號輸出：RS-232或RS-482/4～20mA隔離電流信號。

●輸出信號：4～20mA，控制報警信號NO/NC
●工作電源：220VAC50HZ    ●工作氣源：儀表級壓縮空氣

●環境溫度:-10℃—50℃    ●伴熱溫度:190℃           

●安裝方式:在位式

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氨逃逸解決抑制監測設備